Open lengtemeetsystemen
Open lengtemeetsystemen zijn ontwikkeld voor toepassingen in machines en installaties waar een hoge nauwkeurigheid verlangd wordt van de meetwaarde.
Typische toepassingen zijn:
- Meet- en productiemachines voor de semiconductor industrie
- Printplaat assembleermachines
- Ultra-precisie machines
- Nauwkeurige gereedschapsmachines
- Meetmachines, comparatoren en meetmicroscopen
- Directe aandrijvingen
|
|
|
De open lengtemeetsystemen LIC maken een absolute positiemeting van zeer grote verplaatsingen tot 27 m mogelijk in combinatie met een hoge verplaatsingssnelheid. Ze komen qua montage en afmetingen overeen met de LIDA 400. |
|
De open lengtemeetsystemen LIP bewijzen zich bij de kleinste meetstappen bij tegelijkertijd de hoogste nauwkeurigheid en reproduceerbaarheid. Ze werken volgens het interferentiële aftastprincipe en hebben als maatdrager een DIADUR-roosterverdeling. |
|
De open lengtemeetsystemen LIF beschikken over een in SUPRADUR-verdeling en werken volgens het interferentiële aftastprincipe. Ze hebben een hoge nauwkeurigheid en reproduceerbaarheid, ze laten zich bijzonder eenvoudig monteren en beschikken over een limitschakelaar en homing-spoor.
De speciale versie LIF 481 V kan in het hoogvacuüm tot 10–7 bar gebruikt worden (zie de separate productinformatie). |
|
De open lengtemeetsystemen LIDA zijn zeer geschikt voor hoge verplaatsingssnelheden tot 10 m/s. Ze zijn door de verschillende montagemogelijkheden bijzonder flexibel inzetbaar. Afhankelijk van de versie dient een stalen maatband, glas of keramisch glas als drager voor de METALLUR-roosterverdeling.
Ze beschikken over een limit-schakelaar. |
|
Het twee-coördinaten meetsysteem PP heeft als maatverdeling een 2-coordinaten faserooster op glas dat interferentieel afgetast wordt. Daardoor is de 2D-positiebepaling in een vlak mogelijk. |
Mechanische opbouw
Open lengtemeetsystemen bestaan uit een meetliniaal resp. maatband en een aftastkop en werken contactloos.
Bij open lengtemeetsystemen wordt de meetliniaal op een montagevlak bevestigd. Een hoge vlakheid van het montagevlak is hierbij noodzakelijk voor het verkrijgen van hoge nauwkeurigheden van het lengtemeetsysteem.
Exposed Linear Encoders